发明公开
CN103672083A 一种低压爆破用结构膜片
无效 - 驳回
- 专利标题: 一种低压爆破用结构膜片
- 专利标题(英): Structural diaphragm for low-pressure blasting
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申请号: CN201310577098.2申请日: 2013-11-18
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公开(公告)号: CN103672083A公开(公告)日: 2014-03-26
- 发明人: 司会柳 , 许光 , 贺启林 , 殷明霞 , 周智勇 , 王剑中
- 申请人: 北京宇航系统工程研究所 , 中国运载火箭技术研究院
- 申请人地址: 北京市丰台区南大红门路1号内35栋
- 专利权人: 北京宇航系统工程研究所,中国运载火箭技术研究院
- 当前专利权人: 北京宇航系统工程研究所,中国运载火箭技术研究院
- 当前专利权人地址: 北京市丰台区南大红门路1号内35栋
- 代理机构: 中国航天科技专利中心
- 代理商 臧春喜
- 主分类号: F16K17/40
- IPC分类号: F16K17/40
摘要:
本发明公开了一种低压爆破用结构膜片,采用“工”字型刻槽结构,膜片爆破后沿“工”字刻痕裂开,左右两边各有无刻痕段用于连接,爆破后膜片完全贴合在夹持器内壁上,不会飞出或掉落,且满足常温爆破压差值为0.20MPa~0.27MPaMPa,解决了传统单铰式刻痕膜片所不能达到的低压爆破且爆破后易被吹落的问题,提高了火箭发射安全性和可靠性。