一种新型的有机碱微蚀液
摘要:
本发明涉及印制电路板制造中制作线路的蚀刻液技术领域,特别是涉及到通过半加成法形成线路的一种新型的有机碱微蚀液;它由含量为以下质量百分数的组分组成:二价铜离子化化合物0.1%~15%;有机碱1%~40%;络合添加剂0.0001%~10%;卤素化合物0.0001%~5%;水余量;以上组分的质量百分数之和为100%;所述二价铜离子化化合物按铜离子质量计算,所述卤素化合物按卤素离子质量计算。本发明能蚀刻干净种子铜层,并且对镍层和金层零损伤,同时抑制对线路铜层的过蚀和底层下切。
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