摘要:
一种利用高温退火表征GaN外延层中位错的方法,包括以下步骤:(1)将带有GaN外延层的衬底放入加热炉中,将加热炉密封;(2)将加热炉内气压抽至3×102-1×104Pa,向加热炉内通入N2至加热炉内气压升到室内实际气压值;(3)重复步骤(2);(4)将加热炉的温度升到1000-1200℃后保温3分钟-20分钟,进行退火;(5)将加热炉温度降回到室温;(6)从加热炉中取出样品,并进行观察。该方法通过高温退火,在样品表面形成清晰的退火形貌,有效地显示GaN外延层中的位错,并可对位错的分布进行研究,不仅能够评估位错的密度,还能区分位错的种类,分析其表面退火坑的密度与晶体质量之间的关系,具有过程简单、操作方便快捷、实用性强的特点。
公开/授权文献
- CN103728469A 一种利用高温退火表征GaN外延层中位错的方法 公开/授权日:2014-04-16