发明公开
- 专利标题: 形成焊垫的方法
- 专利标题(英): Method for forming welding pad
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申请号: CN201210454789.9申请日: 2012-11-13
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公开(公告)号: CN103803483A公开(公告)日: 2014-05-21
- 发明人: 姜海涛 , 郭亮良 , 郑超 , 张校平
- 申请人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区张江路18号
- 专利权人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
- 当前专利权人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区张江路18号
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 骆苏华
- 主分类号: B81C1/00
- IPC分类号: B81C1/00
摘要:
一种形成焊垫的方法,包括:提供待形成焊垫的器件,器件包括第一器件层、位于第一器件层上的互连层、位于互连层上的介质层,介质层中具有插栓;器件包括第一区域和第二区域,互连层作为焊垫的部分在第一区域的上表面低于在第二区域的上表面,第一区域的插栓的高度小于介质层的厚度,第二区域的插栓的高度等于介质层的厚度;利用第一干法刻蚀去除第一区域和第二区域中部分高度的插栓;利用第二干法刻蚀去除第一区域和第二区域中剩余的插栓、第一区域和第二区域上的介质层,暴露出第一区域和第二区域的互连层,暴露的互连层作为焊垫,第二干法刻蚀使用的刻蚀气体为刻蚀介质层时使用的刻蚀气体。本技术方案可以提高第二区域的焊垫的导电性。
公开/授权文献
- CN103803483B 形成焊垫的方法 公开/授权日:2016-03-16