Invention Grant
- Patent Title: 用于降低的电流拥挤的双极性结型晶体管结构及制造其的方法
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Application No.: CN201280061214.9Application Date: 2012-12-11
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Publication No.: CN103975439BPublication Date: 2018-01-09
- Inventor: L.程 , A.K.阿加瓦尔 , S-H.刘
- Applicant: 科锐
- Applicant Address: 美国北卡罗来纳州
- Assignee: 科锐
- Current Assignee: 沃孚半导体公司
- Current Assignee Address: 美国北卡罗来纳州
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 蒋骏; 刘春元
- Priority: 13/323297 2011.12.12 US
- International Application: PCT/US2012/068924 2012.12.11
- International Announcement: WO2013/090250 EN 2013.06.20
- Date entered country: 2014-06-12
- Main IPC: H01L29/732
- IPC: H01L29/732 ; H01L21/331 ; H01L29/10 ; H01L29/06 ; H01L29/16

Abstract:
本公开内容涉及相对于常规BJT在改善电流增益的同时显著降低电流拥挤的双极性结型晶体管(BJT)结构。BJT包括:集电极、基极区、和发射极。所述基极区被形成在所述集电极上方并包括至少一个外基区并包括内基区,所述内基区在所述至少一个外基区之上延伸以提供台式晶体管。所述发射极被形成在所述台式晶体管上方。BJT可以由各种材料体系形成,诸如碳化硅(SiC)材料体系。在一个实施例中,发射极在台式晶体管上方形成,使得实质上没有发射极在外基区上方形成。通常,但不必须,内基区直接横向邻接至少一个外基区。
Public/Granted literature
- CN103975439A 用于降低的电流拥挤的双极性结型晶体管结构及制造其的方法 Public/Granted day:2014-08-06
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