发明公开
- 专利标题: 双极半导体开关及其制造方法
- 专利标题(英): Bipolar semiconductor switch and a manufacturing method therefor
-
申请号: CN201410044904.4申请日: 2014-02-07
-
公开(公告)号: CN103986447A公开(公告)日: 2014-08-13
- 发明人: F.J.尼德诺斯泰德 , H-J.舒尔策
- 申请人: 英飞凌科技股份有限公司
- 申请人地址: 德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-12号
- 专利权人: 英飞凌科技股份有限公司
- 当前专利权人: 英飞凌科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-12号
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 王岳; 胡莉莉
- 优先权: 13/761,213 2013.02.07 US
- 主分类号: H03K17/567
- IPC分类号: H03K17/567 ; H01L29/739 ; H01L29/06
摘要:
本发明涉及双极半导体开关及其制造方法。提供了一种具有半导体主体的双极半导体开关。半导体主体包括第一p型半导体区、第二p型半导体区、以及第一n型半导体区,第一n型半导体区与第一p型半导体区形成第一pn结并且与第二p型半导体区形成第二pn结。在第一pn结和第二pn结之间穿过第一n型半导体区的最短路径上,电荷复合中心的浓度和n掺杂剂的浓度变化。电荷复合中心的浓度在沿最短路径的一点处具有最大值,在该点处n掺杂剂的浓度至少接近于最大掺杂剂浓度。另外,提供了一种用于双极半导体开关的制造方法。
公开/授权文献
- CN103986447B 双极半导体开关及其制造方法 公开/授权日:2017-06-13
IPC分类: