发明授权
CN104022189B 一种制备ZnO/ZnS复合光电薄膜的方法
失效 - 权利终止
摘要:
一种制备ZnO/ZnS复合光电薄膜的方法,属于半导体薄膜制备技术领域。本发明通过如下步骤得到:首先清洗基片,然后将ZnO、CH4N2S放入溶剂中,采用旋涂法在基片上得到前驱体薄膜,烘干,放入有水合联氨的可密闭容器中,使前驱体薄膜样品不与联氨接触,最后进行干燥,得到ZnO/ZnS复合光电薄膜。本发明不需要高温高真空条件,对仪器设备要求低,生产成本低,生产效率高,易于操作,所得ZnO/ZnS复合光电薄膜有较好的连续性和均匀性。这种新工艺容易控制目标产物的成分和结构,为制备高性能的ZnO/ZnS复合光电薄膜提供了一种成本低、可实现工业化的制备方法。
公开/授权文献
- CN104022189A 一种制备ZnO/ZnS复合光电薄膜的方法 公开/授权日:2014-09-03
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