发明授权
- 专利标题: 形成图案化的石墨烯层
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申请号: CN201280058371.4申请日: 2012-11-16
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公开(公告)号: CN104023993B公开(公告)日: 2017-04-05
- 发明人: 阿里·阿夫扎利-阿尔达卡尼 , 阿迈德·马鲁夫 , 格伦·J·马蒂纳 , 凯瑟琳·森格尔
- 申请人: 国际商业机器公司 , 埃及纳米技术中心
- 申请人地址: 美国纽约;
- 专利权人: 国际商业机器公司,埃及纳米技术中心
- 当前专利权人: 国际商业机器公司,埃及纳米技术中心
- 当前专利权人地址: 美国纽约;
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 贺月娇; 于静
- 优先权: 13/310,885 20111205 US
- 国际申请: PCT/US2012/065490 2012.11.16
- 国际公布: WO2013/085696 EN 2013.06.13
- 进入国家日期: 2014-05-28
- 主分类号: B32B33/00
- IPC分类号: B32B33/00 ; B44C1/165
摘要:
在衬底上形成图案化的石墨烯层的设备和方法。一种这样的方法包括:在衬底上形成碳化物形成金属或包含金属的合金的至少一个图案化结构;在所述衬底上的所述碳化物形成金属或包含金属的合金的至少一个图案化结构的顶上施加石墨烯层;在一环境中加热在所述碳化物形成金属或包含金属的合金的至少一个图案化结构的顶上的所述石墨烯层,以去除在所述碳化物形成金属或包含金属的合金的至少一个图案化结构附近的石墨烯区域;以及去除所述碳化物形成金属或包含金属的合金的至少一个图案化结构,以在所述衬底上产生图案化的石墨烯层,其中所述衬底上的所述图案化的石墨烯层为电子器件提供载流子迁移率。
公开/授权文献
- CN104023993A 形成图案化的石墨烯层 公开/授权日:2014-09-03