发明授权
- 专利标题: 在非传导表面上形成传导图像的方法
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申请号: CN201280051161.2申请日: 2012-08-16
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公开(公告)号: CN104025724B公开(公告)日: 2017-09-26
- 发明人: W.维斯曼
- 申请人: 全球第一电路技术公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 全球第一电路技术公司
- 当前专利权人: 加法电路技术有限公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 徐予红; 王忠忠
- 优先权: 61/525662 20110819 US 61/568736 20111209 US 13/403797 20120223 US
- 国际申请: PCT/US2012/051193 2012.08.16
- 国际公布: WO2013/028473 EN 2013.02.28
- 进入国家日期: 2014-04-17
- 主分类号: H05K3/18
- IPC分类号: H05K3/18 ; H05K3/10 ; H01L21/768 ; H05K3/38
摘要:
本发明涉及用于在非传导或电介质表面上形成浮凸传导图像的方法,方法包括在衬底的表面上放置金属配位络合物,使表面暴露在电磁辐射下,还原暴露的络合物,去除未暴露的金属络合物,留下元素金属图像,干燥表面,以及随后使用高传导材料对结果元素金属图像进行电镀。
公开/授权文献
- CN104025724A 在非传导表面上形成传导图像的方法 公开/授权日:2014-09-03