发明公开
- 专利标题: 一种CoCrPt-氧化物磁记录靶材、薄膜及其制备方法
- 专利标题(英): CoCrPt-oxide magnetic recording target, film and preparation method thereof
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申请号: CN201410280254.3申请日: 2014-06-20
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公开(公告)号: CN104060229A公开(公告)日: 2014-09-24
- 发明人: 张俊敏 , 谭志龙 , 王传军 , 闻明 , 毕珺 , 沈月 , 宋修庆 , 管伟明
- 申请人: 贵研铂业股份有限公司
- 申请人地址: 云南省昆明市高新技术开发区科技路988号(昆明贵金属研究所)
- 专利权人: 贵研铂业股份有限公司
- 当前专利权人: 贵研铂业股份有限公司
- 当前专利权人地址: 云南省昆明市高新技术开发区科技路988号(昆明贵金属研究所)
- 代理机构: 昆明今威专利商标代理有限公司
- 代理商 赛晓刚
- 主分类号: C23C14/34
- IPC分类号: C23C14/34 ; C23C14/08 ; G11B5/667
摘要:
本发明公开了一种CoCrPt-氧化物磁记录靶材、薄膜及其制备方法,该CoCrPt-氧化物靶材包括SiO2,TiO2,CrO,Cr2O3,Ta2O3,W2O3,Al2O3,Y2O3等氧化物中的一种或几种,其中氧化物相的平均晶粒尺寸在3~20μm。合金靶材中Co、Cr、Pt形成α-Co及ε-Co两相Co基固溶体,其中以低温相六方ε-Co固溶体为主,靶材的厚度在2~6mm之间,靶材的透磁率(PTF)值40%~60%之间。由该合金靶材制得的磁记录介质的磁记录层呈(002)晶面的择优取向生长,在X衍射分析中,用式(1)表示的(002)晶面的X射线衍射峰强度比:………………………式(1)为70%~90%。本发明的溅射靶,有害杂质元素含量低,晶粒尺寸细小均匀,化学成份均匀且偏离名义成分较小。使用上述溅射靶材制备的磁记录介质,该磁记录介质晶粒细小均匀、非磁性晶界明显,磁学性能优良。
IPC分类: