一种晶粒高定向取向的铂溅射靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN111254398A

    公开(公告)日:2020-06-09

    申请号:CN202010186276.9

    申请日:2020-03-17

    摘要: 本发明公开一种晶粒高定向取向的铂溅射靶材及其制备方法,铂溅射靶材呈现(111)晶面高定向取向,致密度不低于99.5%,晶粒尺寸为5~20 ;所述(111)晶面与(200)晶面积分强度比不低于3。制备方法包括:选择4N及以上纯度的铂原料,熔炼获得铸锭;随后进行超声波探伤测定铸锭内部缺陷分布并对其进行真空热压,消除缺陷;再将锭坯浸泡在液氮容器中单向压制;再进行低温退火;最后机加工获得靶材。本发明采用浇铸速度和熔炼炉功率组合,较低压制及退火温度组合,获得性能优异的铂溅射靶材。靶材的高致密度和(111)晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、膜厚均匀的铂薄膜,其制备方法工艺简便,条件温和易操控,大大提高生产效率,极大地节约制备成本。

    一种晶粒高定向取向的铂溅射靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN111254398B

    公开(公告)日:2021-11-12

    申请号:CN202010186276.9

    申请日:2020-03-17

    摘要: 本发明公开一种晶粒高定向取向的铂溅射靶材及其制备方法,铂溅射靶材呈现(111)晶面高定向取向,致密度不低于99.5%,晶粒尺寸为5~20;所述(111)晶面与(200)晶面积分强度比不低于3。制备方法包括:选择4N及以上纯度的铂原料,熔炼获得铸锭;随后进行超声波探伤测定铸锭内部缺陷分布并对其进行真空热压,消除缺陷;再将锭坯浸泡在液氮容器中单向压制;再进行低温退火;最后机加工获得靶材。本发明采用浇铸速度和熔炼炉功率组合,较低压制及退火温度组合,获得性能优异的铂溅射靶材。靶材的高致密度和(111)晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、膜厚均匀的铂薄膜,其制备方法工艺简便,条件温和易操控,大大提高生产效率,极大地节约制备成本。

    一种晶粒高定向取向的铱溅射靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN111235536B

    公开(公告)日:2021-11-12

    申请号:CN202010186255.7

    申请日:2020-03-17

    摘要: 本发明公开了一种晶粒高定向取向的铱溅射靶材及其制备方法,铱溅射靶材呈现(111)晶面高定向取向,致密度不低于99.5%,晶粒尺寸1‑10 μm,氧含量100 ppm以内;所述(111)晶面与(200)晶面积分强度比不低于4。所述制备方法包括以下步骤:选择4N及以上纯度,粒度为1‑10 μm的铱粉;随后将粉末进行冷压成型;再将冷压成型的锭坯进行低温微波烧结;再将锭坯进行低温真空热压烧结进一步提高致密度;最后机加工获得靶材。本发明采用较低的烧结温度、低温真空热压技术及充氢气形成还原气氛,使得铱溅射靶材性能优异,高致密度和(111)晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、厚度均匀的铱薄膜,制备工艺简便,条件温和易于操控,而且可大大提高了生产效率,极大地节约制备成本。

    一种采用水浸式C-scan设备测量焊接型靶材厚度的方法

    公开(公告)号:CN111060044B

    公开(公告)日:2021-06-08

    申请号:CN201911233947.6

    申请日:2019-12-05

    摘要: 本发明针对与背板焊接结合的靶材加工成型后或磁控溅射后靶材部分厚度在不破坏前提下无法直接精确测量的问题,公开了一种采用水浸式C‑scan设备测量焊接型靶材厚度的方法。此方法将焊接型靶材和探头均浸泡在超纯水中,运行C扫软件并利用超声纵波脉冲反射技术、以界面波波峰位置作为起始点的测量类型,通过已知靶坯厚度测量出靶材的声速,在后续与背板结合并加工成型后或磁控溅射后,利用已测靶材声速测量出此时靶材部分的厚度。该方法获得的焊接型靶材部分厚度与解除焊接结合后(即破坏后)直接测量靶材部分厚度的误差≤±5%,准确性能够保证,有效解决了加工焊接型靶材的厚度管控问题,也可有效指导靶材使用寿命的监控,提高焊接型靶材的使用率。