发明公开
- 专利标题: 铁氧体薄膜形成用组合物及铁氧体薄膜的形成方法
- 专利标题(英): Ferrite thin film-forming composition and method of forming ferrite thin film
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申请号: CN201410055661.4申请日: 2014-02-19
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公开(公告)号: CN104078189A公开(公告)日: 2014-10-01
- 发明人: 土井利浩 , 樱井英章 , 曽山信幸 , 中村贤蔵 , 五十岚和则
- 申请人: 三菱综合材料株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 三菱综合材料株式会社
- 当前专利权人: 三菱综合材料株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 北京德琦知识产权代理有限公司
- 代理商 康泉; 王珍仙
- 优先权: 2013-061609 2013.03.25 JP
- 主分类号: H01F10/20
- IPC分类号: H01F10/20 ; H01F41/24
摘要:
本发明提供一种铁氧体薄膜形成用组合物及铁氧体薄膜的形成方法。该铁氧体薄膜形成用组合物为用于通过溶胶-凝胶法形成NiZn铁氧体、CuZn铁氧体、NiCuZn铁氧体薄膜的组合物,上述组合物含有金属原料及含N-甲基吡咯烷酮的溶剂,在将上述组合物设为100质量%时,N-甲基吡咯烷酮的比例为30~60质量%。