发明公开
- 专利标题: 一种阵列基板及其制备方法、显示装置
- 专利标题(英): Array substrate and preparation method thereof, and display device
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申请号: CN201410340346.6申请日: 2014-07-16
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公开(公告)号: CN104183603A公开(公告)日: 2014-12-03
- 发明人: 刘耀 , 白金超 , 李梁梁 , 丁向前 , 刘晓伟 , 郭总杰 , 陈曦
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L21/77
摘要:
本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,可避免形成阻挡层时源漏极间隙尺寸均匀性差,减少阻挡层成本,解决金属缺失信号不导通的问题。该阵列基板包括衬底基板上方的包括栅极、栅线的栅金属层,栅绝缘层,有源层,包括源极、漏极、数据线的源漏金属层,源漏金属层包括铜金属层和/或铜合金层;包括与漏极直接接触的像素电极、与源极直接接触的第一像素电极保留图案、与数据线直接接触的第二像素电极保留图案的像素电极层;像素电极与漏极直接接触的区域、第一像素电极保留图案位于有源层与源漏金属层之间;像素电极未与漏极直接接触的区域、第二像素电极保留图案位于栅绝缘层的上/下方。用于阵列基板的制备。
公开/授权文献
- CN104183603B 一种阵列基板及其制备方法、显示装置 公开/授权日:2017-01-25
IPC分类: