Invention Publication
- Patent Title: 氧化物烧结体及溅射靶、以及其制造方法
- Patent Title (English): Oxide sintered body and sputtering target, and method for manufacturing same
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Application No.: CN201380015355.1Application Date: 2013-03-19
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Publication No.: CN104204283APublication Date: 2014-12-10
- Inventor: 武富雄一 , 田尾幸树 , 金丸守贺 , 坂井健二 , 长谷山秀悦 , 菊山英志
- Applicant: 株式会社钢臂功科研 , 株式会社丰岛制作所
- Applicant Address: 日本国兵库县
- Assignee: 株式会社钢臂功科研,株式会社丰岛制作所
- Current Assignee: 株式会社钢臂功科研
- Current Assignee Address: 日本国兵库县
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 蒋亭
- Priority: 2012-064475 2012.03.21 JP
- International Application: PCT/JP2013/057879 2013.03.19
- International Announcement: WO2013/141254 JA 2013.09.26
- Date entered country: 2014-09-19
- Main IPC: C23C14/34
- IPC: C23C14/34 ; C04B35/00 ; H01M4/525

Abstract:
本发明提供一种含Li过渡金属氧化物烧结体,其作为杂质元素的Al、Si、Zr、Ca以及Y被抑制为Al≤90ppm、Si≤100ppm、Zr≤100ppm、Ca≤80ppm、Y≤20ppm的范围内,并且满足相对密度为95%以上以及电阻率小于2×107Ωcm。根据本发明,能够不产生异常放电地、稳定地以高成膜速度成膜为作为二次电池等的正极薄膜来说有用的含Li过渡金属氧化物薄膜。
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