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公开(公告)号:CN104204283A
公开(公告)日:2014-12-10
申请号:CN201380015355.1
申请日:2013-03-19
CPC classification number: H01J37/3426 , B28B3/025 , C04B35/01 , C04B35/016 , C04B35/26 , C04B35/62695 , C04B35/645 , C04B2235/3203 , C04B2235/3275 , C04B2235/3279 , C04B2235/652 , C04B2235/6567 , C04B2235/663 , C04B2235/72 , C04B2235/77 , C23C14/08 , C23C14/3414 , H01J2237/332 , H01M4/1391 , H01M4/485 , H01M4/505 , H01M4/525 , H01M6/40
Abstract: 本发明提供一种含Li过渡金属氧化物烧结体,其作为杂质元素的Al、Si、Zr、Ca以及Y被抑制为Al≤90ppm、Si≤100ppm、Zr≤100ppm、Ca≤80ppm、Y≤20ppm的范围内,并且满足相对密度为95%以上以及电阻率小于2×107Ωcm。根据本发明,能够不产生异常放电地、稳定地以高成膜速度成膜为作为二次电池等的正极薄膜来说有用的含Li过渡金属氧化物薄膜。
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公开(公告)号:CN111465713B
公开(公告)日:2022-05-03
申请号:CN201980006346.3
申请日:2019-02-12
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C23C14/34 , C01G25/00 , C04B35/457 , G11B7/2578 , G11B7/26
Abstract: 本发明提供一种溅镀靶材和溅镀靶。溅镀靶材包含锌(Zn)的氧化物、锡(Sn)的氧化物及锆(Zr)的氧化物,其中相对于氧(O)以外的所有元素,锌的含量AZn为超过0at%且50at%以下,锡的含量ASn为20at%以上且80at%以下,及锆的含量AZr为超过0at%且40at%以下,而且Zn的含量AZn满足下述式(1);经测定的多个比电阻值中最大值相对于最小值的比为3以下,及所述比电阻值为5×10‑1[Ω·cm]以下;而且所述溅镀靶材不含有铟(In)。AZn/(AZn+ASn)≦0.6·····(1)。
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公开(公告)号:CN104619674B
公开(公告)日:2016-03-30
申请号:CN201380047358.3
申请日:2013-09-10
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C04B35/453 , C04B35/00 , C23C14/34 , H01L21/363
CPC classification number: H01J37/3429 , C04B35/01 , C04B35/453 , C04B35/457 , C04B35/64 , C04B2235/3286 , C04B2235/3293 , C04B2235/6562 , C04B2235/658 , C04B2235/66 , C04B2235/763 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C04B2235/80 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/3414 , H01J37/3491 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02631
Abstract: 一种将氧化锌、氧化铟、氧化镓和氧化锡混合并烧结而得到的氧化物烧结体。所述氧化物烧结体的相对密度为85%以上,在所述氧化物烧结体的表面观察到的晶粒的平均晶粒直径小于10μm。对所述氧化物烧结体进行X射线衍射时,Zn2SnO4相和InGaZnO4相为主相,InGaZn2O5相为3体积%以下。
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公开(公告)号:CN109071361A
公开(公告)日:2018-12-21
申请号:CN201780023775.2
申请日:2017-02-09
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C04B35/453 , C23C14/34 , H01L21/363
Abstract: 一种氧化物烧结体,其中,设锌、铟、镓和锡的含量相对于除氧以外的全部金属元素的比例(原子%)分别为[Zn]、[In]、[Ga]和[Sn]时,满足40原子%≤[Zn]≤55原子%、20原子%≤[In]≤40原子%、5原子%≤[Ga]≤15原子%、和5原子%≤[Sn]≤20原子%,相对密度为95%以上,含有5~20体积%的InGaZn2O5作为晶相。
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公开(公告)号:CN109071356A
公开(公告)日:2018-12-21
申请号:CN201780022824.0
申请日:2017-02-09
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C04B35/01 , C04B35/453 , C04B37/02 , C23C14/34
Abstract: 一种氧化物烧结体,其中,含有50~500ppm的锆,相对于除去氧以外的全部金属元素,设锌、铟、镓和锡的含量的比例(原子%)分别为[Zn]、[In]、[Ga]和[Sn]时,满足下式(1)~(3)。35原子%≤[Zn]≤55原子%…(1)20原子%≤([In]+[Ga])≤55原子%…(2)5原子%≤[Sn]≤25原子%…(3)。
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公开(公告)号:CN105246855B
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:CN201480030142.0
申请日:2014-11-28
CPC classification number: H01J37/3429 , C04B35/01 , C04B35/453 , C04B35/457 , C04B35/645 , C04B37/026 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/3293 , C04B2235/6562 , C04B2235/6567 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C04B2235/80 , C04B2237/12 , C04B2237/34 , C04B2237/407 , C23C14/086 , C23C14/3414 , H01J37/3491
Abstract: 本发明提供能够抑制结合工序中发生破损的氧化物烧结体、和使用该氧化物烧结体的溅射靶、以及其制造方法。本发明的氧化物烧结体是将氧化铟、氧化镓和氧化锡烧结而得到的氧化物烧结体,氧化物烧结体的相对密度为90%以上、氧化物烧结体的平均晶粒直径为10μm以下,将铟、镓、锡的含量相对于氧化物烧结体中所含全部金属元素的比例(原子%)分别设为[In]、[Ga]、[Sn]时,满足30原子%≤[In]≤50原子%、20原子%≤[Ga]≤30原子%、25原子%≤[Sn]≤45原子%,并且InGaO3相满足[InGaO3]≥0.05。
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公开(公告)号:CN117020203A
公开(公告)日:2023-11-10
申请号:CN202310891093.0
申请日:2021-05-06
Applicant: 株式会社钢臂功科研
Inventor: 田尾幸树
Abstract: 本发明提供一种能够容易地制造龟裂得到抑制的烧结体的烧结体的制造方法及溅射靶的制造方法。本发明的一实施方式的烧结体的制造方法包括:形成包含金属粉末及金属氧化物粉末的原料粉末的造粒物的步骤、以及对所述造粒物进行煅烧的步骤,所述原料粉末包含Mn、Cu及Zn作为金属元素,所述原料粉末中的所述金属粉末的体积比率为28.0体积%以上,所述煅烧步骤中的烧结压力为20MPa以上。
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公开(公告)号:CN113649570A
公开(公告)日:2021-11-16
申请号:CN202110490603.4
申请日:2021-05-06
Applicant: 株式会社钢臂功科研
Inventor: 田尾幸树
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够容易地制造龟裂得到抑制的烧结体的烧结体的制造方法及溅射靶的制造方法。本发明的一实施方式的烧结体的制造方法包括:形成包含金属粉末及金属氧化物粉末的原料粉末的造粒物的步骤、以及对所述造粒物进行煅烧的步骤,所述原料粉末包含Mn、Cu及Zn作为金属元素,所述原料粉末中的所述金属粉末的体积比率为28.0体积%以上,所述煅烧步骤中的烧结压力为20MPa以上。
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公开(公告)号:CN110636996B
公开(公告)日:2020-09-01
申请号:CN201880032267.5
申请日:2018-04-17
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: H01L21/363 , C04B35/01 , C23C14/34
Abstract: 本发明涉及一种氧化物烧结体及溅射靶,其中,金属元素包括In、Ga、Zn及Sn,且所述氧化物烧结体包含Ga2In6Sn2O16、ZnGa2O4及InGaZnO4,当将相对于氧化物烧结体中所含的除氧以外的全部金属元素而言的In、Ga、Zn及Sn的含量的比例(原子%)分别设为[In]、[Ga]、[Zn]及[Sn]时,满足式(1)~式(3)。[Ga]≧37原子%…(1)、[Sn]≦15原子%…(2)、[Ga]/([In]+[Zn])≧0.7…(3)。根据本发明,即便在添加有大量Ga的In‑Ga‑Zn‑Sn系氧化物烧结体中,也可抑制接合时的破裂的发生。
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公开(公告)号:CN104619673B
公开(公告)日:2016-07-13
申请号:CN201380047313.6
申请日:2013-09-10
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: H01L21/363 , C04B35/453 , C04B35/00 , C23C14/34
CPC classification number: H01J37/3429 , C04B35/453 , C04B35/457 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/3293 , C04B2235/604 , C04B2235/6562 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C04B2235/80 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/3414 , H01J37/3426 , H01J2237/3322 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02631
Abstract: 一种将氧化锌、氧化铟、氧化镓和氧化锡混合并烧结而得到的氧化物烧结体。所述氧化物烧结体的相对密度为85%以上,对所述氧化物烧结体进行X射线衍射时,Zn2SnO4相和InGaZnO4相以规定的比例包含。
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