- 专利标题: 一种复合电极及其制备方法、阵列基板和显示装置
-
申请号: CN201410601174.3申请日: 2014-10-30
-
公开(公告)号: CN104282736B公开(公告)日: 2018-09-11
- 发明人: 杨久霞 , 白峰 , 刘建涛
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 主分类号: H01L29/41
- IPC分类号: H01L29/41 ; H01L29/43 ; H01L21/28 ; H01L27/12
摘要:
本发明的实施例提供一种复合电极及其制备方法、阵列基板和显示装置,涉及显示技术领域,可提高电极的载流子传输速率,从而降低电极的方阻。所述复合电极包括至少一层石墨烯层和至少一层掺杂层,且相邻两层不同为所述掺杂层;其中,所述掺杂层为氯化铝层或者碘化锌层。用于显示装置的制造。
公开/授权文献
- CN104282736A 一种复合电极及其制备方法、阵列基板和显示装置 公开/授权日:2015-01-14
IPC分类: