发明公开
- 专利标题: 一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示面板
- 专利标题(英): Manufacturing method of array substrate, array substrate and display panel
-
申请号: CN201510016691.9申请日: 2015-01-13
-
公开(公告)号: CN104538358A公开(公告)日: 2015-04-22
- 发明人: 胡宇彤 , 张鑫 , 戴荣磊
- 申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
- 申请人地址: 广东省深圳市光明新区公明办事处塘家社区观光路汇业科技园综合楼1第一层B区
- 专利权人: 深圳市华星光电技术有限公司
- 当前专利权人: 深圳市华星光电技术有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市光明新区公明办事处塘家社区观光路汇业科技园综合楼1第一层B区
- 代理机构: 深圳市威世博知识产权代理事务所
- 代理商 何青瓦
- 主分类号: H01L21/77
- IPC分类号: H01L21/77 ; H01L21/28 ; H01L27/12
摘要:
本发明公开了一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示面板,该方法包括:在基板上形成栅电极及透明的第一电极;在基板上形成绝缘层,绝缘层覆盖栅电极及第一电极;在绝缘层上形成半导体层;在半导体层上形成介质层,并开设第一通孔、第二通孔及第三通孔;在介质层上形成源电极、漏电极和第二电极,源电极及漏电极分别通过第一通孔及第二通孔与半导体层连接,第二电极通过第三通孔与第一电极连接以形成存储电容;在介质层上形成透明的第三电极,第三电极与漏电极连接以形成像素电极。通过上述方式,本发明能够在阵列基板的制作过程中减少光罩的使用数量,减少工艺流程,降低成本。
IPC分类: