发明公开
- 专利标题: 用于真空处理的系统结构
- 专利标题(英): System architecture for vacuum processing
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申请号: CN201380033430.7申请日: 2013-04-26
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公开(公告)号: CN104582863A公开(公告)日: 2015-04-29
- 发明人: T·布卢克 , V·沙阿 , A·里波萨恩
- 申请人: 因特瓦克公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚
- 专利权人: 因特瓦克公司
- 当前专利权人: 因特瓦克公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 刘兴鹏
- 优先权: 61/639,052 2012.04.26 US
- 国际申请: PCT/US2013/038530 2013.04.26
- 国际公布: WO2013/163622 EN 2013.10.31
- 进入国家日期: 2014-12-24
- 主分类号: B05D3/00
- IPC分类号: B05D3/00
摘要:
用于在等离子室中处理基片的系统,使得所有的基片传送及装载/卸载操作是在大气环境中被执行,但处理是在真空环境中被执行。基片在承载器上贯穿该系统被传送。该系统的各室被线性地布置,使得各承载器从一个室直接地移动到下一个室。被放置在该系统的各室上方或下方的传送机,在处理完成之后将各承载器返回到系统的入口区域。基片的装载和卸载可以在系统的一侧处被执行,或者装载可以在入口侧处完成而卸载在出口侧处完成。
公开/授权文献
- CN104582863B 用于真空处理的系统结构 公开/授权日:2016-09-21