发明授权
- 专利标题: 阵列基板及其制作方法、显示装置
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申请号: CN201510080229.5申请日: 2015-02-13
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公开(公告)号: CN104614910B公开(公告)日: 2017-11-14
- 发明人: 辛燕霞 , 杨小飞 , 胡伟
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 主分类号: G02F1/1362
- IPC分类号: G02F1/1362 ; G02F1/1368 ; G02F1/1343 ; H01L23/50
摘要:
本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,涉及显示领域,能够在不增加构图工艺的前提下,在像素电极和与相邻的数据线之间设置屏蔽电极,改善了TFT‑LCD显示图像交叉串扰问题,提高了显示质量。所述阵列基板包括基板及形成在所述基板上的数据线、像素电极和公共电极。所述公共电极包括与所述像素电极相对的主体部分,还包括延伸至所述像素电极、与像素电极相邻的数据线之间的屏蔽部分,所述屏蔽部分用于屏蔽所述像素电极与所述数据线之间的电容耦合作用。
公开/授权文献
- CN104614910A 阵列基板及其制作方法、显示装置 公开/授权日:2015-05-13
IPC分类: