阵列基板及其制备方法、显示面板

    公开(公告)号:CN108346622A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201710061083.9

    申请日:2017-01-25

    IPC分类号: H01L21/84 H01L27/12

    摘要: 一种阵列基板及其制备方法、显示面板,该制备方法包括:提供包括显示区和位于所述显示区外围的引线区的衬底基板,在所述引线区中形成连接电极的过程中保留用于对其进行构图工艺的第一光刻胶层,然后在所述衬底基板上沉积反射像素电极层薄膜并对其进行构图工艺以在所述显示区中形成反射像素电极层且在所述引线区内去除所述反射像素电极层薄膜以暴露出所述第一光刻胶层,然后同时去除所述反射像素电极层上用于对所述反射像素电极层薄膜进行构图的第二光刻胶层和所述引线区内的所述第一光刻胶层。上述第一光刻胶层可防止形成反射像素电极层时用的腐蚀液其它部件造成腐蚀;第一光刻胶层与第二光刻胶层同时去除可以省掉一次光刻胶清洗工艺。

    显示基板及其制作方法和显示装置

    公开(公告)号:CN116209313A

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202111448253.1

    申请日:2021-11-30

    摘要: 提供一种显示基板及其制作方法和显示装置。显示基板包括:多个子像素,位于衬底基板的主表面上,子像素包括发光元件,发光元件具有发光区,发光元件包括第一电极、发光功能层、以及第二电极,发光功能层包括多个子功能层;以及隔断结构,位于相邻子像素的发光区之间,并包括层叠设置的第一隔断部和第二隔断部,第一隔断部位于第二隔断部的靠近衬底基板的一侧,第二隔断部具有突出部,突出部相对于第一隔断部的靠近第二隔断部的一侧突出,发光功能层的至少一个子功能层在突出部处断开,第一隔断部的材料包括有机材料,第二隔断部的材料包括有机材料,沿从第一电极指向第二电极的方向上,隔断结构在衬底基板上的正投影逐渐减小再逐渐增大。

    一种阵列基板及其制备方法、显示装置

    公开(公告)号:CN107706196B

    公开(公告)日:2021-05-25

    申请号:CN201710897693.2

    申请日:2017-09-28

    IPC分类号: H01L27/12

    摘要: 本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,可改善因信号线被腐蚀而导致的显示不良的问题。所述阵列基板包括衬底,还包括依次设置在所述衬底上的信号线、导电保护图案、至少一层绝缘层和透明导电图案,所述导电保护图案设置在所述信号线的表面,所述至少一层绝缘层上设置有过孔,所述透明导电图案通过所述过孔与所述信号线接触;所述过孔在所述衬底上的正投影落入所述导电保护图案在所述衬底上的正投影内,所述导电保护图案在所述衬底上的正投影落入所述信号线在所述衬底上的正投影内。

    一种阵列基板及其制备方法、显示装置

    公开(公告)号:CN107706196A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201710897693.2

    申请日:2017-09-28

    IPC分类号: H01L27/12

    CPC分类号: H01L27/1214 H01L27/124

    摘要: 本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,可改善因信号线被腐蚀而导致的显示不良的问题。所述阵列基板包括衬底,还包括依次设置在所述衬底上的信号线、导电保护图案、至少一层绝缘层和透明导电图案,所述导电保护图案设置在所述信号线的表面,所述至少一层绝缘层上设置有过孔,所述透明导电图案通过所述过孔与所述信号线接触;所述过孔在所述衬底上的正投影落入所述导电保护图案在所述衬底上的正投影内,所述导电保护图案在所述衬底上的正投影落入所述信号线在所述衬底上的正投影内。

    阵列基板及其制作方法、显示装置

    公开(公告)号:CN104614910B

    公开(公告)日:2017-11-14

    申请号:CN201510080229.5

    申请日:2015-02-13

    摘要: 本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,涉及显示领域,能够在不增加构图工艺的前提下,在像素电极和与相邻的数据线之间设置屏蔽电极,改善了TFT‑LCD显示图像交叉串扰问题,提高了显示质量。所述阵列基板包括基板及形成在所述基板上的数据线、像素电极和公共电极。所述公共电极包括与所述像素电极相对的主体部分,还包括延伸至所述像素电极、与像素电极相邻的数据线之间的屏蔽部分,所述屏蔽部分用于屏蔽所述像素电极与所述数据线之间的电容耦合作用。