本发明涉及显示技术领域，公开了一种阵列基板制作方法，包括：在衬底基板上形成包括遮光层、缓冲层、有源层、栅绝缘层、栅线、公共电极线和栅极的图形；形成层间绝缘薄膜，并利用第一光刻胶对所述层间绝缘薄膜图案化，形成源漏金属薄膜和第二光刻胶，通过所述第一光刻胶和第二光刻胶配合形成层间绝缘层、源极、漏极和数据线的图形；形成包括有机绝缘层和公共电极的图形，并连接跨越栅线和公共电极线的数据线；形成包括钝化层、像素电极的图形。还公开了一种阵列基板和显示装置。本发明形成层间绝缘层、源极和漏极只需一次mask工艺，相对于现有技术减少一次mask次数，从而降低了工艺复杂度和工艺成本，提高了产率。