发明授权
CN104617112B 阵列基板及其制作方法、显示装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 阵列基板及其制作方法、显示装置
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申请号: CN201510067734.6申请日: 2015-02-09
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公开(公告)号: CN104617112B公开(公告)日: 2017-10-17
- 发明人: 刘耀 , 白金超 , 刘晓伟 , 丁向前 , 郭总杰
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 彭瑞欣; 陈源
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L29/786 ; H01L21/77
摘要:
本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,所述制作方法包括以下步骤:形成有源层;在所述有源层上待形成沟道的区域的周边形成保护图形;形成包括源漏极的图形;对所述待形成沟道的区域进行刻蚀,形成薄膜晶体管的沟道,并且,所述保护图形的靠近所述沟道的边缘超出所述源漏极靠近所述沟道的边缘。本发明在有源层上设置了保护图形,有效防止了干法刻蚀对沟道的侧蚀,减小了沟道的尺寸,提高了产品的开口率,有利于实现产品的窄边框设计。当沟道的长度减小时,能够提高薄膜晶体管的开态电流,并且,在保证开态电流满足设计需求的前提下,还可以进一步减小沟道宽度或者减小驱动电压,降低功耗,提高产品的竞争优势。
公开/授权文献
- CN104617112A 阵列基板及其制作方法、显示装置 公开/授权日:2015-05-13
IPC分类: