发明公开
- 专利标题: 一种金属电极制造方法及其装置
- 专利标题(英): Metal electrode manufacturing method and device
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申请号: CN201410853925.0申请日: 2014-12-31
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公开(公告)号: CN104701153A公开(公告)日: 2015-06-10
- 发明人: 王耀华 , 赵哿 , 刘江 , 刘钺杨 , 高明超 , 金锐 , 温家良
- 申请人: 国家电网公司 , 国网智能电网研究院 , 国网北京市电力公司
- 申请人地址: 北京市西城区西长安街86号
- 专利权人: 国家电网公司,国网智能电网研究院,国网北京市电力公司
- 当前专利权人: 国家电网公司,国网智能电网研究院,国网北京市电力公司
- 当前专利权人地址: 北京市西城区西长安街86号
- 代理机构: 北京安博达知识产权代理有限公司
- 代理商 徐国文
- 主分类号: H01L21/28
- IPC分类号: H01L21/28 ; H01L21/285 ; H01L21/67
摘要:
本发明提出了一种金属电极制造装置,装置包括由下至上依次设置的载片台(1)、盖板(4)和固定件(5),载片台(1)由在同一平面上的至少两块载片件组成,金属掩膜罩(2)跨放在其上;位于金属掩膜罩(2)上方的所述盖板(4)剖面为拉长的倒置凹槽,其两端的凸块支撑在所述载片件上;依据设于硅片上的芯片的电极形状敷设的金属掩膜罩(2)。使用该金属电极制造装置的金属电极制造方法在蒸镀过程中,金属通过金属掩膜罩的窗口到达硅片表面,在指定的区域淀积形成厚金属电极,减少了一次光刻和一次金属刻蚀工艺,缩短了加工周期,降低了生成成本。
公开/授权文献
- CN104701153B 一种金属电极制造方法及其装置 公开/授权日:2018-03-20
IPC分类: