发明公开
- 专利标题: 阵列基板及其制作方法、显示装置
- 专利标题(英): Array substrate and manufacturing method and display device thereof
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申请号: CN201510125831.6申请日: 2015-03-20
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公开(公告)号: CN104733474A公开(公告)日: 2015-06-24
- 发明人: 胡伟 , 朴承翊 , 代科 , 朱亚文 , 莫再隆
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L21/77 ; G02F1/1362 ; G02F1/1368 ; G02F1/1343
摘要:
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置。所述阵列基板包括基板,所述基板上设有第一电极层和第二电极层,所述第一电极层和所述第二电极层之间设有电极绝缘层,所述电极绝缘层中设有沟槽,所述沟槽位于所述第一电极层的靠近所述第二电极层的靠近侧,所述沟槽中设有能够屏蔽所述第一电极层和所述第二电极层之间耦合电容的屏蔽层,所述屏蔽层与所述第一电极层和所述第二电极层绝缘,且所述屏蔽层接地。本发明的阵列基板解决了不能有效避免两电极之间的耦合电压的技术问题,其可应用于薄膜晶体管液晶显示器中。
公开/授权文献
- CN104733474B 阵列基板及其制作方法、显示装置 公开/授权日:2018-01-09
IPC分类: