发明授权
CN104775608B 一种用于特殊层高部位的集成式升降平台附着装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种用于特殊层高部位的集成式升降平台附着装置
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申请号: CN201510132675.6申请日: 2015-03-25
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公开(公告)号: CN104775608B公开(公告)日: 2016-08-03
- 发明人: 史魏 , 乔会丹 , 邰冶 , 邓南丹 , 刘道文 , 顾亚运 , 谢喜龙 , 闻照峰
- 申请人: 中国建筑第二工程局有限公司
- 申请人地址: 北京市西城区广安门南街42号中建二局大厦
- 专利权人: 中国建筑第二工程局有限公司
- 当前专利权人: 中国建筑第二工程局有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市西城区广安门南街42号中建二局大厦
- 代理机构: 北京中建联合知识产权代理事务所
- 代理商 朱丽岩; 李聚
- 主分类号: E04G3/28
- IPC分类号: E04G3/28
摘要:
本发明涉及一种用于特殊层高部位的集成式升降平台附着装置,用于将升降平台安装到建筑结构,建筑结构包括架空层和标准层;附着装置包括:立柱预埋件,立柱预埋件埋设在与架空层相邻的标准层;立柱,立柱设有连接件,用于连接集成式升降平台;立柱的下端与立柱预埋件固定连接;撑杆预埋件,撑杆预埋件预埋在与架空层相邻的标准层;撑杆,撑杆的一端与立柱的上端连接,另一端连接到撑杆预埋件。采用本发明的升降平台附着装置,可以在特殊建筑结构部位及层高超高部位为升降平台提供可靠的连接,保证升降平台连接稳固,增加升降平台的应用范围。整个装置采用型钢构件组成,安装方便,并且可以进行周转使用,在工程结束后回收残值高。
公开/授权文献
- CN104775608A 一种用于特殊层高部位的集成式升降平台附着装置 公开/授权日:2015-07-15