- 专利标题： 具有高度对称四重式气体注入的等离子体反应器
- 专利标题（英）： PLASMA REACTOR WITH HIGHLY SYMMETRICAL FOUR-FOLD GAS INJECTION
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申请号： CN201480003017.0申请日： 2014-02-03
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公开(公告)号： CN104782234A公开(公告)日： 2015-07-15
- 发明人: Y·罗森佐恩 , K·坦蒂翁 , I·优素福 , V·克尼亚齐克 , S·巴纳
- 申请人： 应用材料公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 应用材料公司
- 当前专利权人： 应用材料公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 黄嵩泉
- 优先权： 61/789,485 2013.03.15 US
- 国际申请： PCT/US2014/014391 2014.02.03
- 国际公布： WO2014/149200 EN 2014.09.25
- 进入国家日期： 2015-05-12
- 主分类号： H05H1/34
- IPC分类号： H05H1/34 ; H05H1/24
摘要：
一种等离子体反应器的环形盖板具有上层及下层气体分配通道，该等气体分配通道沿着相等长度路径从气体供应接线分配气体至顶部气体喷嘴的各自的气体分配通道。
公开/授权文献
- CN104782234B 具有高度对称四重式气体注入的等离子体反应器 公开/授权日：2017-07-14
IPC分类:
