发明公开
- 专利标题: 阵列基板、阵列基板制造方法和显示装置
- 专利标题(英): Array substrate, array substrate manufacturing method, and display device
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申请号: CN201510243789.8申请日: 2015-05-13
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公开(公告)号: CN104867945A公开(公告)日: 2015-08-26
- 发明人: 刘翔
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 鞠永善
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L21/77 ; G02F1/1362
摘要:
本发明是关于一种阵列基板、阵列基板制造方法和显示装置,属于显示技术领域。所述方法包括:基板;基板上依次形成有包括栅极的图案以及栅绝缘层,包括栅极的图案包括多个栅极;在形成有栅绝缘层的基板上形成有包括半导体层的图案;在形成有半导体层的图案的基板上形成有源极与漏极的图案,半导体层的图案分别与源极、漏极连接,第一连接点至第二连接点在半导体层的图案上的距离大于栅极的任一边长。本发明通过增加源漏极间的距离来增大源漏极间的电阻,继而减小关态电流,解决了相关技术中以目前的关态电流在低刷新频率下,无法保持加载在液晶显示像素的电压的问题;达到了在低刷新频率下,也能保持加载在液晶显示像素的电压的效果。
公开/授权文献
- CN104867945B 阵列基板、阵列基板制造方法和显示装置 公开/授权日:2018-02-13
IPC分类: