发明授权

磁记录介质用铝基板
摘要:
本发明的磁记录介质用铝基板为成膜有厚度6μm以上的SiO2膜的铝基板,其特征在于,前述SiO2膜是将前述铝基板加热至150℃~370℃并利用气相成膜法而成膜的。
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