一种用于浸没式光刻机的垂直回收和气密封装置
摘要:
本发明公开了一种用于浸没式光刻机的垂直回收和气密封装置。在浸没单元基体上开有中心锥孔,底面开有垂直气液回收腔和注气腔,浸没单元基体开有水平注液口和、水平液体回收口、注气口和垂直气液回收口;浸没单元下端盖上开有中心通孔,浸没单元下端盖顶面开有垂直气液回收孔槽和气密封孔槽;垂直气液回收孔槽上开有垂直气液回收孔,气密封孔槽开有气密封孔,其个微孔均位于相邻道垂直回收孔中最紧邻的两个微孔中垂线上。本发明完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封功能,通过垂直回收的回收负压和气密封的气体流,约束浸没液体的流场边界,保证光刻机在高速运转过程中浸没液体不发生泄漏。
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