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发明公开
CN104973566A 具精确间隙的微机电晶圆结构与其制作方法 无效 - 驳回

具精确间隙的微机电晶圆结构与其制作方法
摘要：
本发明提供一种具精确间隙的微机电晶圆结构及其制作方法，该制作方法包括以下步骤。首先，提供一第一晶圆，第一晶圆具有一第一表面。接着，于该第一表面的形成至少两个以上具有不同掺杂浓度或不同掺杂物的掺杂区，以使每一该掺杂区具有不同的氧化速率。再来，对第一晶圆进行热氧化，以使不同的掺杂区上形成不同厚度的氧化层。之后，提供一第二晶圆。然后，将第二晶圆与第一晶圆相结合。本发明的有益效果是可以制造出成本较低、电容间极板具精确间隙的微机电晶圆结构。
摘要（英）：

The present disclosure provides a method for fabricating semiconductor devices having high-precision gaps. The method includes steps of providing a first wafer; forming two or more regions having various ion dosage concentrations on a first surface of the first wafer; thermally oxidizing the first wafer so as to grow oxide layers with various thicknesses on the first surface of the first wafer; and bonding a second wafer to the thickest oxide layer of the first wafer so as to form one or more gaps.

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