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发明授权
CN105027270B 用于热处理腔室的高温测量过滤器 有权

用于热处理腔室的高温测量过滤器
摘要：
本文中所述的实施方式大体涉及在半导体基板的热处理期间的高温测量。更具体地，实施方式是关于用于热处理腔室的高温测量过滤器。在某些实施方式中，高温测量过滤器选择性地过滤选定的能量波长以改良高温计测量。高温测量过滤器可具有多种几何形状，这些几何形状可影响高温测量过滤器的功能。
摘要（英）：

Embodiments of the invention generally relate to pyrometry during thermal processing of semiconductor substrates. More specifically, embodiments of the invention relate to a pyrometry filter for a thermal process chamber. In certain embodiments, the pyrometry filter selectively filters selected wavelengths of energy to improve a pyrometer measurement. The pyrometry filter may have various geometries which may affect the functionality of the pyrometry filter.

公开/授权文献
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