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公开(公告)号：CN106291950B
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201610717185.7
申请日：2012-12-13
申请人： 应用材料公司
发明人： 斯蒂芬·莫法特 , 道格拉斯·E·霍姆格伦 , 塞缪尔·C·豪厄尔斯 , 埃德里克·唐 , 布鲁斯·E·亚当斯 , 季平·李 , 阿伦·缪尔·亨特
摘要： 公开用于组合放大的辐射光束的设备和方法。光束组合器具有准直光学元件，该准直光学元件被定位成相对于准直光学元件的光轴以恒定的入射角接收多个相干辐射光束。各自的入射角度在某些实施方式中亦可为不同的。准直光学元件具有使光束准直的光学特性。该光学特性可为折射或反射，或折射与反射的结合。亦可提供聚集光学元件以将多个光束引导至准直光学元件。光束组合器可用于热处理设备中，以将诸如激光的两个以上的相干放大辐射光束组合至单一光束中。
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公开(公告)号：CN107578991A
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：CN201710606365.2
申请日：2015-06-15
申请人： 应用材料公司
发明人： 阿伦·缪尔·亨特 , 阿米科姆·萨德 , 塞缪尔·C·豪厄尔斯 , 道格拉斯·E·霍姆格伦 , 布鲁斯·E·亚当斯 , 西奥多·P·莫菲特 , 斯蒂芬·莫法特
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/67 , B23K26/00 , B23K26/0622 , B23K26/073 , B23K26/08 , B23K26/70
CPC分类号： B23K26/70 , B23K26/0732 , B23K26/082 , B23K26/352 , H01L21/268 , H01L21/67115
摘要： 一种用于热处理基板的装置、系统及方法。脉冲电磁能量源能以至少100Hz的频率产生脉冲。可移动基板支撑件可相对于电磁能量脉冲移动基板。光学系统可设置在能量源和可移动基板支撑件之间，且可包含将电磁能量脉冲塑形成矩形分布的部件。控制器可命令所述电磁能量源以选定的脉冲频率产生能量脉冲。所述控制器也可命令所述可移动基板支撑件以选定的速度在平行于所述矩形分布的选定的边缘的方向上进行扫描，使得沿着平行于所述选定的边缘的直线上的每个点接收预定数量的电磁能量脉冲。
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公开(公告)号：CN103797565B
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201280045273.7
申请日：2012-09-14
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/324
CPC分类号： B23K26/127 , B23K26/142 , B23K26/1464
摘要： 本发明大体涉及激光处理系统，该激光处理系统用于对基板进行热处理。激光处理系统包含屏蔽，该屏蔽设置在基板和激光处理系统的能量源之间，该基板将进行热处理。屏蔽包含光透明的窗口，该光透明的窗口被设置为与屏蔽内的腔体相邻。光透明的窗口允许退火能量穿过该光透明的窗口并照射基板。屏蔽还包含一个或更多个气体入口和一个或更多个气体出口，这些气体入口和这些气体出口用于从屏蔽内的腔体引入净化气体和移除净化气体。净化气体被利用以在进行热处理期间移除挥发的成分或剥蚀的成分，且净化气体被利用以提供预定组成的气体(比如不含氧)至热处理区域。
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公开(公告)号：CN106663629A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580035113.8
申请日：2015-06-15
申请人： 应用材料公司
发明人： 阿伦·缪尔·亨特 , 阿米科姆·萨德 , 塞缪尔·C·豪厄尔斯 , 道格拉斯·E·霍姆格伦 , 布鲁斯·E·亚当斯 , 西奥多·P·莫菲特 , 斯蒂芬·莫法特
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/67
摘要： 一种用于热处理基板的装置、系统及方法。脉冲电磁能量源能以至少100Hz的频率产生脉冲。可移动基板支撑件可相对于电磁能量脉冲移动基板。光学系统可设置在能量源和可移动基板支撑件之间，且可包含将电磁能量脉冲塑形成矩形分布的部件。控制器可命令所述电磁能量源以选定的脉冲频率产生能量脉冲。所述控制器也可命令所述可移动基板支撑件以选定的速度在平行于所述矩形分布的选定的边缘的方向上进行扫描，使得沿着平行于所述选定的边缘的直线上的每个点接收预定数量的电磁能量脉冲。
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公开(公告)号：CN103765564B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201280041674.5
申请日：2012-08-31
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01L21/324
CPC分类号： H01L21/02686 , H01L21/02521 , H01L21/268
摘要： 说明了用于处理具有非晶半导体层或具有小晶体的半导体层的基板以于基板中形成大晶体的设备与方法。识别基板的处理区，并利用对处理区传送脉冲能量的逐步熔化工艺来熔化处理区。接着利用对该区域传送脉冲能量的逐步结晶化工艺来使该处理区重新结晶化。在逐步结晶化工艺中所传送的脉冲能量被选择以随着熔化材料凝固而使小晶体转变为大晶体。
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公开(公告)号：CN103797565A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201280045273.7
申请日：2012-09-14
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/324
CPC分类号： B23K26/127 , B23K26/142 , B23K26/1464
摘要： 本发明大体涉及激光处理系统，该激光处理系统用于对基板进行热处理。激光处理系统包含屏蔽，该屏蔽设置在基板和激光处理系统的能量源之间，该基板将进行热处理。屏蔽包含光透明的窗口，该光透明的窗口被设置为与屏蔽内的腔体相邻。光透明的窗口允许退火能量穿过该光透明的窗口并照射基板。屏蔽还包含一个或更多个气体入口和一个或更多个气体出口，这些气体入口和这些气体出口用于从屏蔽内的腔体引入净化气体和移除净化气体。净化气体被利用以在进行热处理期间移除挥发的成分或剥蚀的成分，且净化气体被利用以提供预定组成的气体(比如不含氧)至热处理区域。
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公开(公告)号：CN106141424A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201610565610.5
申请日：2012-06-20
申请人： 应用材料公司
发明人： 斯蒂芬·莫法特 , 道格拉斯·E·霍姆格伦 , 塞缪尔·C·豪厄尔斯 , 埃德里克·唐 , 布鲁斯·E·亚当斯 , 季平·李 , 阿伦·缪尔·亨特
IPC分类号： B23K26/00 , B23K26/03 , B23K26/06 , B23K26/08 , B23K26/12 , H01L21/268 , B23K26/0622 , H01S3/00 , B23K101/40
CPC分类号： H01L21/477 , B23K26/0006 , B23K26/03 , B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/0608 , B23K26/0622 , B23K26/08 , B23K26/127 , B23K26/354 , B23K2101/40 , B23K2103/56 , F27B5/14 , H01L21/268 , H01S3/0057
摘要： 描述了光学系统，所述光学系统能够跨越包含于衬底的表面上的退火区域可靠地递送数量均匀的能量。所述光学系统经调适以在衬底的表面上的所要区域上递送或投射具有所要二维形状的数量均匀的能量。用于光学系统的能量源通常为多个激光，所述多个激光经组合以形成能量场。
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公开(公告)号：CN103890913B
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201280052799.8
申请日：2012-12-13
申请人： 应用材料公司
发明人： 斯蒂芬·莫法特 , 道格拉斯·E·霍姆格伦 , 塞缪尔·C·豪厄尔斯 , 埃德里克·唐 , 布鲁斯·E·亚当斯 , 季平·李 , 阿伦·缪尔·亨特
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/26
CPC分类号： G02B27/106 , G02B17/0888 , G02B27/0025 , G02B27/10 , G02B27/1006 , G02B27/12 , G02B27/123 , G02B27/126 , G02B27/14 , G02B27/143 , G02B27/30
摘要： 公开用于组合放大的辐射光束的设备和方法。光束组合器具有准直光学元件，该准直光学元件被定位成相对于准直光学元件的光轴以恒定的入射角接收多个相干辐射光束。各自的入射角度在某些实施方式中亦可为不同的。准直光学元件具有使光束准直的光学特性。该光学特性可为折射或反射，或折射与反射的结合。亦可提供聚集光学元件以将多个光束引导至准直光学元件。光束组合器可用于热处理设备中，以将诸如激光的两个以上的相干放大辐射光束组合至单一光束中。
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公开(公告)号：CN103597587B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201280027949.X
申请日：2012-06-20
申请人： 应用材料公司
发明人： 斯蒂芬·莫法特 , 道格拉斯·E·霍姆格伦 , 塞缪尔·C·豪厄尔斯 , 埃德里克·唐 , 布鲁斯·E·亚当斯 , 季平·李 , 阿伦·缪尔·亨特
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/26
CPC分类号： H01L21/477 , B23K26/0006 , B23K26/03 , B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/0608 , B23K26/0622 , B23K26/08 , B23K26/127 , B23K26/354 , B23K2101/40 , B23K2103/56 , F27B5/14 , H01L21/268 , H01S3/0057
摘要： 描述了光学系统，所述光学系统能够跨越包含于衬底的表面上的退火区域可靠地递送数量均匀的能量。所述光学系统经调适以在衬底的表面上的所要区域上递送或投射具有所要二维形状的数量均匀的能量。用于光学系统的能量源通常为多个激光，所述多个激光经组合以形成能量场。
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公开(公告)号：CN103597587A
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201280027949.X
申请日：2012-06-20
申请人： 应用材料公司
发明人： 斯蒂芬·莫法特 , 道格拉斯·E·霍姆格伦 , 塞缪尔·C·豪厄尔斯 , 埃德里克·唐 , 布鲁斯·E·亚当斯 , 季平·李 , 阿伦·缪尔·亨特
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/26
CPC分类号： H01L21/477 , B23K26/0006 , B23K26/03 , B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/0608 , B23K26/0622 , B23K26/08 , B23K26/127 , B23K26/354 , B23K2101/40 , B23K2103/56 , F27B5/14 , H01L21/268 , H01S3/0057
摘要： 本发明大体而言涉及光学系统，所述光学系统能够跨越包含于衬底的表面上的退火区域可靠地递送数量均匀的能量。所述光学系统经调适以在衬底的表面上的所要区域上递送或投射具有所要二维形状的数量均匀的能量。用于光学系统的能量源通常为多个激光，所述多个激光经组合以形成能量场。
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