- 专利标题: 薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示装置
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申请号: CN201510478094.8申请日: 2015-08-06
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公开(公告)号: CN105047675B公开(公告)日: 2018-06-22
- 发明人: 刘玉东 , 熊雄 , 曹诚英 , 王慧 , 林琳 , 吴芳芳
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京安信方达知识产权代理有限公司
- 代理商 张京波; 曲鹏
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L29/786
摘要:
本发明涉及显示技术领域,具体涉及薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示装置。本发明的薄膜晶体管,包括衬底,衬底的上表面形成有与源极的图案相匹配的第一凹槽和与漏极的图案相匹配的第二凹槽,第一凹槽和第二凹槽分别设置有第一电极和第二电极;第一电极和第二电极上还设置有与第一电极和第二电极相接触的有源层;其中,第一电极至少包括源极,第二电极至少包括漏极;第一凹槽的深度小于第一电极的厚度的二倍;第二凹槽的深度小于第二电极的厚度的二倍。本发明降低了顶栅结构薄膜晶体管的膜层结构段差,提高了产品良率。
公开/授权文献
- CN105047675A 薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示装置 公开/授权日:2015-11-11
IPC分类: