Invention Grant
- Patent Title: 一种GaN基倒装HEMT器件结构及其制备方法
-
Application No.: CN201510519807.0Application Date: 2015-08-23
-
Publication No.: CN105070701BPublication Date: 2018-09-14
- Inventor: 徐明升 , 周泉斌 , 王洪
- Applicant: 华南理工大学
- Applicant Address: 广东省广州市天河区五山路381号
- Assignee: 华南理工大学
- Current Assignee: 华南理工大学
- Current Assignee Address: 广东省广州市天河区五山路381号
- Agency: 广州粤高专利商标代理有限公司
- Agent 何淑珍
- Main IPC: H01L23/488
- IPC: H01L23/488 ; H01L23/367 ; H01L29/778 ; H01L21/335 ; H01L21/60
Abstract:
本发明涉及一种GaN基倒装HEMT器件结构及其制备方法。GaN基倒装HEMT器件结构包括基板、电极焊盘、电极、绝缘介质膜、外延层和导电通孔。所述外延层包括GaN缓冲层和AlGaN势垒层,栅电极一端穿过绝缘介质膜与栅电极焊盘连接,栅电极另一端与外延层的AlGaN势垒层连接,所述外延层通过栅电极焊盘与基板粘合在一起;所述基板、栅电极焊盘、绝缘介质膜、AlGaN势垒层、GaN缓冲层自下而上排布。本发明的HEMT器件外延片与散热基板通过栅电极焊盘连接,散热性能明显改善。另外源漏栅电极焊盘在外延层上方,没有刻蚀掉无用的外延层,外延层的有效利用率提高。本发明还提供一种GaN基倒装HEMT器件的制备方法。
Public/Granted literature
- CN105070701A 一种GaN基倒装HEMT器件结构及其制备方法 Public/Granted day:2015-11-18
Information query
IPC分类: