Invention Publication
CN105190830A 用于控制谱法用等离子体的方法和装置
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- Patent Title: 用于控制谱法用等离子体的方法和装置
- Patent Title (English): Method and apparatus for control of a plasma for spectrometry
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Application No.: CN201480007759.0Application Date: 2014-03-13
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Publication No.: CN105190830APublication Date: 2015-12-23
- Inventor: S·哈特维尔
- Applicant: 赛默电子制造有限公司
- Applicant Address: 英国剑桥郡
- Assignee: 赛默电子制造有限公司
- Current Assignee: 赛默电子制造有限公司
- Current Assignee Address: 英国剑桥郡
- Agency: 上海专利商标事务所有限公司
- Agent 管琦琦
- Priority: 1304701.4 2013.03.15 GB
- International Application: PCT/EP2014/054966 2014.03.13
- International Announcement: WO2014/140179 EN 2014.09.18
- Date entered country: 2015-08-06
- Main IPC: H01J49/10
- IPC: H01J49/10 ; G01N21/73 ; H01J27/16 ; H01J37/32 ; H05H1/00 ; G01J3/443
Abstract:
一种用于控制光学发射光谱法或质谱法用电感耦合等离子体或微波诱导等离子体的温度的方法和装置，其中测量由该等离子体发射的两条辐射光谱线的强度，并且调整所提供的用于维持该等离子体的功率以使得这些强度的比率保持基本上恒定。
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