发明授权
- 专利标题: 半导体器件及其制造方法
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申请号: CN201480034461.9申请日: 2014-05-02
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公开(公告)号: CN105393363B公开(公告)日: 2018-01-02
- 发明人: 海老原洪平 , 三浦成久 , 浜田宪治 , 大久野幸史
- 申请人: 三菱电机株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 三菱电机株式会社
- 当前专利权人: 三菱电机株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 金光华
- 优先权: 2013-134443 2013.06.27 JP
- 国际申请: PCT/JP2014/062129 2014.05.02
- 国际公布: WO2014/208201 JA 2014.12.31
- 进入国家日期: 2015-12-17
- 主分类号: H01L29/861
- IPC分类号: H01L29/861 ; G03F1/70 ; H01L21/329 ; H01L29/06 ; H01L29/41 ; H01L29/78 ; H01L29/868
摘要:
本发明的目的在于,提供一种具备能够在抑制制造时的抗蚀剂垮塌的同时有效地缓和电场集中的终端区域的半导体器件及其制造方法。本发明的半导体器件具备:形成于由第1导电类型的碳化硅半导体构成的半导体基板的半导体元件(110);以及在俯视时包围半导体元件(110)而形成于半导体基板(1)的第2导电类型的多个环状区域(2),多个环状区域(2)中的至少一个具备使该环状区域(2)的在俯视时内侧和外侧的第1导电类型的区域在俯视时相互连通的一个以上的第1导电类型的隔开区域(5)。
公开/授权文献
- CN105393363A 半导体器件及其制造方法 公开/授权日:2016-03-09
IPC分类: