发明公开
- 专利标题: 一种图案绘制方法
- 专利标题(英): Pattern drawing method
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申请号: CN201610006437.5申请日: 2016-01-07
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公开(公告)号: CN105441941A公开(公告)日: 2016-03-30
- 发明人: 李达 , 陈兵 , 范兴文 , 张敏敏 , 肖长源
- 申请人: 西南交通大学
- 申请人地址: 四川省成都市金牛区二环路北一段111号
- 专利权人: 西南交通大学
- 当前专利权人: 宁波市近强信息科技有限公司
- 当前专利权人地址: 四川省成都市金牛区二环路北一段111号
- 代理机构: 成都宏顺专利代理事务所
- 代理商 王睿
- 主分类号: C23C26/02
- IPC分类号: C23C26/02
摘要:
本发明公开了一种图案绘制方法。首先选择导电材料为基体、导电材料为绘制材料,然后在基体和绘制材料之间施加脉冲电源,其中,基体与脉冲电源的阴极连接,绘制材料与脉冲电源的阳极连接,控制绘制材料与基体之间的距离至绘制材料开始熔化,使熔化后的液态绘制材料沉积到基体表面的同时与基体形成化学键结合,通过控制绘制材料的移动方向从而形成所需图案。在一定电压下,当基体与绘制材料接近至二者之间的介质被短路电流击穿时会产生局部高温,使得绘制材料熔化并沉积到基体表面的同时与基体形成化学键结合,结合力强,不易发生脱落等现象。在沉积过程中,基体所受的应力几乎为零,因此不会有任何变形或开裂风险。
公开/授权文献
- CN105441941B 一种图案绘制方法 公开/授权日:2018-08-24
IPC分类: