发明授权
- 专利标题: 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置
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申请号: CN201510701449.5申请日: 2015-10-26
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公开(公告)号: CN105445834B公开(公告)日: 2017-09-01
- 发明人: 陈林森 , 朱鹏飞 , 浦东林 , 楼益民 , 魏国军 , 朱铭 , 杨颖 , 申溯 , 叶燕 , 刘艳花
- 申请人: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号;
- 专利权人: 苏州大学,苏州苏大维格光电科技股份有限公司
- 当前专利权人: 苏州大学,苏州苏大维格科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号;
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 唐灵; 常亮
- 主分类号: G02B5/18
- IPC分类号: G02B5/18 ; G03F7/20
摘要:
一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置,采用小尺寸光栅拼接而成,曝光装置包括两级缩微模块和消零级位相光栅,第一级缩微模块为4F成像系统,第二级缩微模块为双远心缩微投影干涉成像系统,该第二级缩微模块具有比第一级缩微模块更大的缩微倍数,且该第一缩微模块的成像面构成该第二级缩微模块的输入面,该第二缩微模块的输出面构成曝光成像时的记录面,其中第一级缩微模块包括第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组,所述消零级位相光栅位于该第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组之间,当曝光光斑中的条纹位置需要调整时,将该消零级位相光栅沿着垂直于栅线方向进行平移,实现光斑中条纹位置改变。
公开/授权文献
- CN105445834A 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置 公开/授权日:2016-03-30