发明授权
- 专利标题: 阵列基板及其制作方法
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申请号: CN201610066613.4申请日: 2016-01-29
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公开(公告)号: CN105487718B公开(公告)日: 2019-03-15
- 发明人: 陈归 , 龚强
- 申请人: 武汉华星光电技术有限公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
- 专利权人: 武汉华星光电技术有限公司
- 当前专利权人: 武汉华星光电技术有限公司
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
- 代理机构: 深圳市威世博知识产权代理事务所
- 代理商 梁恺峥
- 主分类号: G06F3/041
- IPC分类号: G06F3/041 ; G06F3/044 ; H01L27/12 ; H01L21/77 ; G02F1/1333 ; G02F1/1362
摘要:
本发明公开了一种阵列基板及其制作方法。阵列基板包括:玻璃基板,玻璃基板上依次设置遮光金属层和缓冲层;薄膜晶体管层,设置在缓冲层上,薄膜晶体管层包括栅绝缘层和薄膜晶体管,其中薄膜晶体管位于遮光金属层上方;绝缘层、有机透明层,依次设置在薄膜晶体管层上;像素电极层,像素电极层通过第一通孔与薄膜晶体管的源/漏极连接;触控电极层,触控电极层通过第二通孔与遮光金属层连接;钝化层,设置在像素电极层与触控电极层之间。通过以上方式,本发明能够简化制作,并有效降低触控电极与信号线之间的耦合电容。
公开/授权文献
- CN105487718A 阵列基板及其制作方法 公开/授权日:2016-04-13