发明授权
CN105514125B 一种阵列基板、其制备方法及显示面板
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种阵列基板、其制备方法及显示面板
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申请号: CN201610072900.6申请日: 2016-02-02
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公开(公告)号: CN105514125B公开(公告)日: 2019-07-12
- 发明人: 陈程 , 李纪龙 , 徐德智 , 吕艳明
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京同达信恒知识产权代理有限公司
- 代理商 黄志华
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L21/77 ; H01L21/768 ; G02F1/1362
摘要:
本发明公开了一种阵列基板、其制备方法及显示面板,包括衬底基板,依次位于所述衬底基板上的第一导电层、绝缘层和第二导电层,绝缘层具有过孔区域、位于过孔区域外侧的半保留区域、以及包围半保留区域和过孔区域所在的区域的完全保留区域。由于过孔区域周围是半保留区域,降低了过孔周围绝缘层的厚度,可以保证在过孔坡度固定的情况下减小过孔的尺寸,从而提高开口率,并且可以降低过孔边缘残留绝缘层材料的影响。另外,由于绝缘层的高度段差分为两段,从而可以降低绝缘层整体厚度造成的段差影响。
公开/授权文献
- CN105514125A 一种阵列基板、其制备方法及显示面板 公开/授权日:2016-04-20
IPC分类: