真空锁系统及基片处理方法
Abstract:
本发明公开了一种传送基片的真空锁系统,包含腔室主体、基片支撑组件和升降机构。腔室主体包括第一室和第二室,第二室侧壁上形成可选择地连接至大气气氛环境或真空处理环境的两个开口,第一室对置于其中的基片进行等离子体处理。基片支撑组件可升降的设置于腔室主体中,包括垂直堆叠的隔离板和承载基片的第一支撑件和第二支撑件。升降机构驱动基片支撑组件在第一位置和第二位置之间移动,该第一位置为隔离板密封第一室的底部开口、第一支撑件置于第一室内且第二支撑件对应第二室侧壁上的两个开口处;第二位置为第一支撑件对应两个开口处。本发明能够提高基片处理效率,减轻传送机器人的运动负担。
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