- 专利标题: 光扩散粉、光扩散粉的制备方法、量子点光刻胶及量子点彩膜
- 专利标题(英): Photodiffusion powder, preparation method of photodiffusion powder, quantum dot photoresist and quantum dot color film
-
申请号: CN201610266767.8申请日: 2016-04-26
-
公开(公告)号: CN105694042A公开(公告)日: 2016-06-22
- 发明人: 周婷婷 , 张斌 , 齐永莲 , 谢蒂旎 , 蒋勇
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 许静; 黄灿
- 主分类号: C08G77/18
- IPC分类号: C08G77/18 ; G03F7/004 ; G03F7/033 ; G03F7/038
摘要:
本发明属于显示技术领域,尤其涉及光扩散粉其制备方法、量子点光刻胶及量子点彩膜。本发明的光扩散粉制备方法为:烷氧基硅烷在酸性条件或碱性条件下进行共水解缩合反应,得到光扩散粉。本发明还公开了由所述光扩散粉制成的量子点光刻胶及量子点彩膜。所述光扩散粉具有有机链段结构和无机结构,与量子点光刻胶体系中的各种组分相容性较好,具有较好的分散效果,增加了光刻胶的均匀性。由该量子点光刻胶制成的量子点彩膜膜质均匀,光利用率高。
公开/授权文献
- CN105694042B 光扩散粉、光扩散粉的制备方法、量子点光刻胶及量子点彩膜 公开/授权日:2021-04-13