Invention Grant

晶片加工用带
Abstract:
本发明的课题在于提供一种晶片加工用带,其可以减少标签痕迹的产生,且可以不论胶粘剂层的厚度如何地选择支承构件,同时可以减少在胶粘剂层与粘合膜之间卷入空气。其特征在于,具有:长的脱模膜(11);胶粘剂层(12),设置在脱模膜(11)的第1面上、且具有规定的平面形状;粘合膜(13),具有标签部(13a)和包围标签部(13a)的外侧的周边部(13b),标签部(13a)以覆盖胶粘剂层(12)、且在胶粘剂层(12)的周围与脱模膜(11)接触的方式设置,并且具有规定的平面形状;以及支承构件(14),设置在脱模膜(11)的与第1面相反的第2面上,并且在包含与胶粘剂层(12)对应的部分、且不包含与标签部(13a)的在所述脱模膜(11)的短边方向上的端部对应的部分的区域内,沿脱模膜(11)的长边方向设置。
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