Invention Grant
- Patent Title: 晶片加工用带
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Application No.: CN201510870409.3Application Date: 2015-12-02
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Publication No.: CN105694745BPublication Date: 2018-10-09
- Inventor: 杉山二朗 , 青山真沙美 , 佐久间登 , 大田乡史 , 木村和宽
- Applicant: 古河电气工业株式会社
- Applicant Address: 日本国东京都
- Assignee: 古河电气工业株式会社
- Current Assignee: 古河电气工业株式会社
- Current Assignee Address: 日本国东京都
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 刘建
- Priority: 2014-246313 2014.12.04 JP
- Main IPC: C09J7/20
- IPC: C09J7/20 ; H01L21/683

Abstract:
本发明的课题在于提供一种晶片加工用带,其可以减少标签痕迹的产生,且可以不论胶粘剂层的厚度如何地选择支承构件,同时可以减少在胶粘剂层与粘合膜之间卷入空气。其特征在于,具有:长的脱模膜(11);胶粘剂层(12),设置在脱模膜(11)的第1面上、且具有规定的平面形状;粘合膜(13),具有标签部(13a)和包围标签部(13a)的外侧的周边部(13b),标签部(13a)以覆盖胶粘剂层(12)、且在胶粘剂层(12)的周围与脱模膜(11)接触的方式设置,并且具有规定的平面形状;以及支承构件(14),设置在脱模膜(11)的与第1面相反的第2面上,并且在包含与胶粘剂层(12)对应的部分、且不包含与标签部(13a)的在所述脱模膜(11)的短边方向上的端部对应的部分的区域内,沿脱模膜(11)的长边方向设置。
Public/Granted literature
- CN105694745A 晶片加工用带 Public/Granted day:2016-06-22
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