发明授权
- 专利标题: 匀光结构及匀光系统
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申请号: CN201410767573.7申请日: 2014-12-12
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公开(公告)号: CN105739101B公开(公告)日: 2020-02-28
- 发明人: 杨佳翼 , 胡飞 , 谢颂婷
- 申请人: 深圳光峰科技股份有限公司
- 申请人地址: 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦20-22楼
- 专利权人: 深圳光峰科技股份有限公司
- 当前专利权人: 深圳市光峰科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦20-22楼
- 代理机构: 深圳市深佳知识产权代理事务所
- 代理商 王仲凯
- 主分类号: G02B27/09
- IPC分类号: G02B27/09 ; G02B3/00 ; G02B5/04
摘要:
本发明公开了一种匀光结构及匀光系统,包括:匀光基板,匀光基板包括基板本体,和位于基板本体任意一表面的第一图案结构,第一图案结构包括多个微结构,用于对照射到其表面的入射光束进行匀光;以及,位于匀光基板任意一表面一侧的反射层,且反射层的反射面朝向匀光基板。在匀光基板的任意一表面设置一反射层,当入射光束照射到匀光基板未设置反射层一侧表面时,部分光线被该表面反射;而后部分光线入射至反射层的表面后,被反射出匀光基板,因此被匀光结构匀光后的光束为二次反射后的光束。即本发明提供的匀光结构将高斯分布的入射光束,整形为平顶分布的光束,该光束扩散角度小,有利于光束的收集,满足了显示系统体积小、质量轻等要求。
公开/授权文献
- CN105739101A 匀光结构及匀光系统 公开/授权日:2016-07-06