- 专利标题: 辐射源、量测设备、光刻系统和器件制造方法
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申请号: CN201480067916.7申请日: 2014-11-14
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公开(公告)号: CN105814662B公开(公告)日: 2019-05-03
- 发明人: M·P·C·范赫尤门
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 北京市金杜律师事务所
- 代理商 王茂华
- 优先权: 13197290.3 2013.12.13 EP
- 国际申请: PCT/EP2014/074659 2014.11.14
- 国际公布: WO2015/086258 EN 2015.06.18
- 进入国家日期: 2016-06-12
- 主分类号: H01J65/04
- IPC分类号: H01J65/04 ; G01N21/956 ; G03F7/20 ; H01J61/35 ; H01J61/54
摘要:
一种辐射源设备,包括:用于利用气体介质加压的容器(400),其中发射等离子体发射辐射的等离子体在通过驱动辐射(50)激发所述气体介质之后被生成,其中容器基本上可操作(66,67)以在等离子体发射辐射作为输出辐射离开容器之前从等离子体发射辐射中去除具有10‑400nm的波长的辐射。在实施例中,容器包括:可操作地将驱动辐射从容器的外部透射至容器的内部的入口辐射透射元件(64);以及可操作地将等离子体发射辐射的至少一些从容器的内部透射至容器的外部作为输出辐射的出口辐射透射元件(65);其中的入口辐射透射元件和出口辐射透射元件中的至少一个包括平面平行平板。
公开/授权文献
- CN105814662A 辐射源、量测设备、光刻系统和器件制造方法 公开/授权日:2016-07-27