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公开(公告)号:CN105830198B
公开(公告)日:2017-10-27
申请号:CN201480068191.3
申请日:2014-11-14
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: M·P·C·范赫尤门
CPC分类号: H05G2/008 , G03F7/70016 , G03F7/70191 , G03F7/70616 , H01J61/045 , H01J61/523 , H01J61/526
摘要: 一种辐射源设备,包括:容器,其包括用于限定用于容纳气体介质的空间的壁,其中发射等离子体发射辐射的等离子体在通过驱动辐射激发气体介质之后生成;和热负荷施加器,其适于将热负荷应用到容器的壁的至少一部分以减少壁中的应力。
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公开(公告)号:CN105830198A
公开(公告)日:2016-08-03
申请号:CN201480068191.3
申请日:2014-11-14
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: M·P·C·范赫尤门
CPC分类号: H05G2/008 , G03F7/70016 , G03F7/70191 , G03F7/70616 , H01J61/045 , H01J61/523 , H01J61/526
摘要: 一种辐射源设备,包括:容器,其包括用于限定用于容纳气体介质的空间的壁,其中发射等离子体发射辐射的等离子体在通过驱动辐射激发气体介质之后生成;和热负荷施加器,其适于将热负荷应用到容器的壁的至少一部分以减少壁中的应力。
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公开(公告)号:CN115136276A
公开(公告)日:2022-09-30
申请号:CN202180015158.4
申请日:2021-02-15
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: M·A·范德凯克霍夫 , 张景 , M·P·C·范赫尤门 , P·A·A·M·布鲁斯 , 王二恒 , V·沙玛 , M·塞法 , 傅邵维 , S·M·斯科拉里 , J·A·H·M·雅各布斯
摘要: 公开了用于将流体传送至带电粒子束系统中的台的装置、系统和方法。在一些实施例中,台可以被配置为固定晶片;腔可以被配置为容纳台;并且管可以被设置在腔中,以在台和腔外部之间传送流体。管可以包括第一材料的第一管状层,其中,第一材料是柔性聚合物;以及第二材料的第二管状层,其中,第二材料被配置为减少流体或气体穿过管的渗透。在一些实施例中,一种系统可以包括位于腔的外部的脱气系统,其中,脱气系统可以被配置为在传送流体进入管之前,从传送流体中去除气体。
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公开(公告)号:CN112424922A
公开(公告)日:2021-02-26
申请号:CN201980047675.2
申请日:2019-07-11
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: J·G·戈森 , 陈德育 , D·H·C·范班宁 , E·C·卡迪杰克 , M·P·C·范赫尤门 , 王二恒 , J·A·H·M·雅各布斯
IPC分类号: H01L21/67 , H01L21/677
摘要: 公开了一种改进的粒子束检查装置,并且更具体地,公开了一种包括改进的装载锁定单元的粒子束检查装置。一种改进的装载锁定系统可以包括被配置为支撑晶片的多个支撑结构和包括被配置为调节晶片的温度的传热元件的调节板。装载锁定系统还可以包括被配置为在调节板与晶片之间提供气体的排气孔和被配置为辅助对传热元件的控制的控制器。
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公开(公告)号:CN105814662A
公开(公告)日:2016-07-27
申请号:CN201480067916.7
申请日:2014-11-14
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: M·P·C·范赫尤门
IPC分类号: H01J65/04 , G01N21/956 , G03F7/20 , H01J61/35 , H01J61/54
CPC分类号: H05G2/008 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G03F7/70191 , H01J61/35 , H01J61/54 , H01J61/545 , H01J65/00 , H01J65/04
摘要: 一种辐射源设备,包括:用于利用气体介质加压的容器(400),其中发射等离子体发射辐射的等离子体在通过驱动辐射(50)激发所述气体介质之后被生成,其中容器基本上可操作(66,67)以在等离子体发射辐射作为输出辐射离开容器之前从等离子体发射辐射中去除具有10?400nm的波长的辐射。在实施例中,容器包括:可操作地将驱动辐射从容器的外部透射至容器的内部的入口辐射透射元件(64);以及可操作地将等离子体发射辐射的至少一些从容器的内部透射至容器的外部作为输出辐射的出口辐射透射元件(65);其中的入口辐射透射元件和出口辐射透射元件中的至少一个包括平面平行平板。
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公开(公告)号:CN118737894A
公开(公告)日:2024-10-01
申请号:CN202410737231.4
申请日:2019-07-11
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: J·G·戈森 , 陈德育 , D·H·C·范班宁 , E·C·卡迪杰克 , M·P·C·范赫尤门 , 王二恒 , J·A·H·M·雅各布斯
IPC分类号: H01L21/67 , G03F7/20 , H01L21/687 , H01L21/677
摘要: 公开了一种改进的粒子束检查装置,并且更具体地,公开了一种包括改进的装载锁定单元的粒子束检查装置。一种改进的装载锁定系统可以包括被配置为支撑晶片的多个支撑结构和包括被配置为调节晶片的温度的传热元件的调节板。装载锁定系统还可以包括被配置为在调节板与晶片之间提供气体的排气孔和被配置为辅助对传热元件的控制的控制器。
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公开(公告)号:CN113169007A
公开(公告)日:2021-07-23
申请号:CN201980078686.7
申请日:2019-11-12
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: J·G·戈森 , S·A·J·霍尔 , M·P·C·范赫尤门 , D·H·C·范班宁 , N·霍塞尼
IPC分类号: H01J37/141 , B33Y80/00
摘要: 公开了用于冷却带电粒子束系统的物镜的系统和方法。根据某些实施例,用于冷却带电粒子束系统的物镜的方法包括经由线轴的流体输入端口接收流体,经由分布在该线轴中的多个通道循环吸收了由该物镜的多个电磁线圈所生成的热量的流体,并且经由该线轴的流体输出端口分配由该多个通道所循环的流体。该线轴可以进一步包括接近于晶片的底部凸缘以及远离该晶片的顶部凸缘。具有多个通道的该线轴可以包括增材制造的单片结构。
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公开(公告)号:CN105814662B
公开(公告)日:2019-05-03
申请号:CN201480067916.7
申请日:2014-11-14
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: M·P·C·范赫尤门
IPC分类号: H01J65/04 , G01N21/956 , G03F7/20 , H01J61/35 , H01J61/54
摘要: 一种辐射源设备,包括:用于利用气体介质加压的容器(400),其中发射等离子体发射辐射的等离子体在通过驱动辐射(50)激发所述气体介质之后被生成,其中容器基本上可操作(66,67)以在等离子体发射辐射作为输出辐射离开容器之前从等离子体发射辐射中去除具有10‑400nm的波长的辐射。在实施例中,容器包括:可操作地将驱动辐射从容器的外部透射至容器的内部的入口辐射透射元件(64);以及可操作地将等离子体发射辐射的至少一些从容器的内部透射至容器的外部作为输出辐射的出口辐射透射元件(65);其中的入口辐射透射元件和出口辐射透射元件中的至少一个包括平面平行平板。
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