本发明提供一种用于化学气相沉积的清洗工艺，该清洗工艺至少包括：提供内部带有钨的反应腔；将反应腔中通入氟化气体并电离形成氟离子，用氟离子清洗反应腔内的钨；抽走反应腔中的副产物；在反应腔中通入硅烷和六氟化钨，使二者反应并在反应腔内形成第一钨薄膜；抽走反应腔中的副产物；在反应腔中通入氢气和六氟化钨，使二者反应并在反应腔内的所述第一钨薄膜上继续生长第二钨薄膜；抽走反应腔中的副产物；重复形成第一、第二钨薄膜若干次。本发明通过氟离子清洗反应腔内的钨。取消了氢气的钝化，防止反应腔的颗粒物残留异常升高。在反应腔内形成致密的钨薄膜，以改善清洗之后氟离子给加热盘带来的损坏，并稳定清洗之后腔体的温度。