Invention Grant
- Patent Title: 感活性光线性或感放射线性树脂组合物以及膜
-
Application No.: CN201480072319.3Application Date: 2014-12-11
-
Publication No.: CN105900013BPublication Date: 2019-12-24
- Inventor: 高桥孝太郎 , 土村智孝 , 山口修平 , 横川夏海 , 望月英宏
- Applicant: 富士胶片株式会社
- Applicant Address: 日本国东京都
- Assignee: 富士胶片株式会社
- Current Assignee: 富士胶片株式会社
- Current Assignee Address: 日本国东京都
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 葛凡
- Priority: 2014-020783 2014.02.05 JP
- International Application: PCT/JP2014/082855 2014.12.11
- International Announcement: WO2015/118774 JA 2015.08.13
- Date entered country: 2016-07-05
- Main IPC: G03F7/004
- IPC: G03F7/004 ; G03F7/038

Abstract:
本发明提供一种感活性光线性或感放射线性树脂组合物,该组合物为含有具有酚性羟基的碱可溶性树脂(A)、以及分子内合计具有2个以上的羟基甲基或烷氧基甲基的交联剂(C)的感活性光线性或感放射线性树脂组合物,其中,相对于包含交联剂(C1)的交联剂(C)的总量,以60摩尔%~100摩尔%的比例含有分子量为420以上且分子内合计具有2~4个羟基甲基或烷氧基甲基的交联剂(C1),且相对于感活性光线性或感放射线性树脂组合物中的固体成分1g,交联剂(C)所具有的羟基甲基或烷氧基甲基的合计的浓度0.30mmol/g以上。
Public/Granted literature
- CN105900013A 感活性光线性或感放射线性树脂组合物、感活性光线性或感放射线性膜、具备感活性光线性或感放射线性膜的空白掩模、光掩模、图案形成方法、电子器件的制造方法及电子器件 Public/Granted day:2016-08-24
Information query
IPC分类: