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公开(公告)号：CN116848460A
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202180093694.6
申请日：2021-12-21
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明的课题在于提供一种对曝光的灵敏度优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的课题在于提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂，满足还包含由式(1)表示的化合物以及通过酸的作用分解而极性增大的树脂具有从由式(1)表示的化合物去除1个氢原子而形成的残基中的至少一个。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN116830041A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202180093287.5
申请日：2021-12-20
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039
Abstract: 本发明提供一种经时稳定性及所形成的图案的LWR抑制性优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、正型图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含具有重复单元(a)的树脂(A)及共轭酸的pKa为13.00以下的碱性化合物，上述重复单元(a)具有通过光化射线或放射线的照射使脱离基脱离而产生酸的非离子性基团，并且将上述脱离基取代为氢原子而成的重复单元的分子量为300以下，相对于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总固体成分，上述重复单元(a)为规定量。
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公开(公告)号：CN104335119B
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201380026683.1
申请日：2013-05-23
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
Abstract: 提供一种图案形成方法，其包括：(i)由光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物形成膜的步骤；(ii)将膜曝光的步骤；以及(iii)通过使用含有有机溶剂的显影液进行显影以形成阴图型图案的步骤，其中所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有(A)能够通过酸的作用增加极性以降低在含有有机溶剂的显影液中的溶解度的树脂，(B)能够在用光化射线或放射线照射时生成酸的化合物，(C)溶剂，以及(D)含有具有氟原子并且不具有CF3部分结构的重复单元的树脂。
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公开(公告)号：CN104583866B
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：CN201380045257.2
申请日：2013-08-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07D279/12 , C07D327/06 , C07D411/04 , G03F7/039
Abstract: 提供了一种光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物，其含有由式(1)表示的化合物：其中R1表示多环芳族基团或多环杂环芳族基团，R2表示(n+2)价的饱和的烃基，R3表示(m+2)价的饱和的烃基，R4和R5各自独立地表示取代基，Q表示含有杂原子的连接基团，m和n各自独立地表示0至12的整数，当n为2以上时，多个R4可以是相同的或不同的，多个R4可以相互连接与R2一起形成非芳族环，当m为2以上时，多个R5可以是相同的或不同的，且多个R5可以相互连接与R3一起形成非芳族环，且X‑表示非亲核阴离子。
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公开(公告)号：CN102549494A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201080038300.9
申请日：2010-08-17
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F20/10 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C08F20/10 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含：(PA)化合物，所述化合物具有质子受体官能团并且当用光化射线或辐射照射时进行分解以产生减小或失去质子受体性的化合物或由质子受体官能性变为酸性，其中化合物(PA)在193nm的波长在乙腈溶剂中测得的摩尔消光系数ε为55,000以下，并且提供使用所述组合物的图案形成方法。
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公开(公告)号：CN112752798A
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201980062870.2
申请日：2019-09-24
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08L79/08 , B32B15/088 , B32B27/34 , C08G59/32 , C08G73/10 , C08G73/12 , C08K3/011 , G03F7/004 , G03F7/027
Abstract: 本发明提供一种树脂组合物、使用了树脂组合物的固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体组件，所述树脂组合物包含聚酰亚胺前体、热产碱剂和具有多个选自由环氧基、氧杂环丁基、羟甲基、烷氧基甲基、酚基、顺丁烯二酰亚胺基、氰酸酯基及封端异氰酸酯组成的群组中的官能基的热固化性化合物。
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公开(公告)号：CN105900013B
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201480072319.3
申请日：2014-12-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感活性光线性或感放射线性树脂组合物，该组合物为含有具有酚性羟基的碱可溶性树脂(A)、以及分子内合计具有2个以上的羟基甲基或烷氧基甲基的交联剂(C)的感活性光线性或感放射线性树脂组合物，其中，相对于包含交联剂(C1)的交联剂(C)的总量，以60摩尔％～100摩尔％的比例含有分子量为420以上且分子内合计具有2～4个羟基甲基或烷氧基甲基的交联剂(C1)，且相对于感活性光线性或感放射线性树脂组合物中的固体成分1g，交联剂(C)所具有的羟基甲基或烷氧基甲基的合计的浓度0.30mmol/g以上。
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8.发明公开公开(公告)号：CN105849638A
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201480070130.0
申请日：2014-12-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C41/01 , C07C43/178 , G03F7/038
Abstract: 本发明提供一种在形成例如线宽为50nm以下的超微细图案时，可抑制依赖于PEB温度的图案的线宽变动且保存稳定性也优异的感活化光线性或感放射线性树脂组合物等。该组合物含有碱可溶性树脂及交联剂，所述交联剂由下述通式(I)表示。式中，R1及R6分别独立地表示氢原子或碳原子数为5以下的烃基。R2及R5分别独立地表示烷基、环烷基、芳基或酰基。R3及R4分别独立地表示氢原子或碳原子数为2以上的有机基团。R3及R4可相互键合而形成环。[化学式1]。
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公开(公告)号：CN102483569B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201080038279.2
申请日：2010-08-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 根据一个实施方案，光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含：下面通式(I)的化合物中的任意一个，当暴露于光化射线或辐射时生成酸的化合物以及疏水树脂。(通式(I)中所使用的符号具有说明书中所提到的含义。)RN-A-X+ (I)。
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公开(公告)号：CN104335119A
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201380026683.1
申请日：2013-05-23
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0046 , C08F220/18 , C08F220/22 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/32 , G03F7/325 , G03F7/40 , H01L21/027 , H01L21/0273
Abstract: 提供一种图案形成方法，其包括：(i)由光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物形成膜的步骤；(ii)将膜曝光的步骤；以及(iii)通过使用含有有机溶剂的显影液进行显影以形成阴图型图案的步骤，其中所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有(A)能够通过酸的作用增加极性以降低在含有有机溶剂的显影液中的溶解度的树脂，(B)能够在用光化射线或放射线照射时生成酸的化合物，(C)溶剂，以及(D)含有具有氟原子并且不具有CF3部分结构的重复单元的树脂。
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