发明授权
CN105914187B 一种半导体设备及其制作方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种半导体设备及其制作方法
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申请号: CN201610462387.1申请日: 2016-06-23
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公开(公告)号: CN105914187B公开(公告)日: 2019-02-05
- 发明人: 李学良 , 西里奥 , 艾 , 珀里亚科夫
- 申请人: 四川洪芯微科技有限公司
- 申请人地址: 四川省遂宁市射洪县经济开发区河东大道
- 专利权人: 四川洪芯微科技有限公司
- 当前专利权人: 四川洪芯微科技有限公司
- 当前专利权人地址: 四川省遂宁市射洪县经济开发区河东大道
- 代理机构: 湖州金卫知识产权代理事务所
- 代理商 赵卫康
- 主分类号: H01L23/29
- IPC分类号: H01L23/29 ; H01L21/56
摘要:
一种半导体器件,尤其是采用以铝硅酸盐为基本成分的钝化半导体器件,如氧化铅铝硅酸盐玻璃,金属氧化物玻璃保护层,适用于高压应用。为了增加该半导体器件在反向偏压和高温热应力下的可靠性,该铝硅酸盐玻璃钝化层常常含有浓度在100ppm(mol,摩尔百分数)到1000ppm(mol,摩尔百分数)的氟。
公开/授权文献
- CN105914187A 一种半导体设备及其制作方法 公开/授权日:2016-08-31
IPC分类: